主　　　旨：本校谨订于108年10月25日(星期五)举办2019 GASE Formosa+ GX 国际专家工作坊－「继往开来：建立全球化半导体研发及人才培育基地」，敬邀贵校相关领域之教职员生踊跃参加，并惠予公告周知，请查照。
说　　　明：
　一、旨揭活动为本校与科技部全球事务与科学发展中心共同举办，并邀请国内外半导体元件材料领域着名学者及杰出产业领袖，从产学并进方式落实跨界整合及深化国际研究合作层面探讨，分享如何导入国际能量并串联企业合作，培育出新一代半导体研发创新人才，以持续推升台湾半导体科技发展之全球优势，欢迎相关领域人员踊跃参加。
　二、活动相关资讯说明如下：
　　（一）时间：108年10月25日(星期五)10时至13时
　　（二）地点：国立交通大学(光复校区)浩然图书资讯中心B1国际会议厅(新竹市东区大学路1001号)
　　（三）讲者：
　　　１、引言人：程海东 博士/交通大学国际半导体产业学院讲座教授
　　　２、与谈人：
　　　　（１）任广禹 博士/香港城市大学学务副校长
　　　　（２）孙元成 博士/前台积电副总经理兼技术长
　　　　（３）陈冠能 博士/交通大学国际长暨国际半导体产业学院副院长
　　（四）报名方式：本活动免费入场，自即日起受理报名，有意参与者请迳至线上报名系统登录(https://forms.gle/cksMZQaHWETT71Wf9)，席位有限额满为止。
　　（五）本活动敬备餐点，为响应环保政策，请自行携带饮水容器。
　三、检附活动海报及议程各1份，如需进一步了解资讯，请迳洽本校研发处研发企划组承办人郭小姐，连络电话03-5712121转分机53255。