一、计画申请作业，自即日起接受申请，请计画申请人依国科会补助专题研究计画办法，研提正式计画申请书(采线上申请)，并由计画主持人所任职之机构于101年5月31日下午5时前备函「送达」本会(请汇整造册后专案函送)，逾期恕不受理，(校内截止时间为：101/05/24)。
二、计画之研究主题必须具有前瞻性与创新性。
三、计画内容需对「小尺寸或高元件密度」或「暂无尺寸限制具特殊功能」属性做说明，并须对(1)奈米材料、(2)奈米元件、(3)制程与设备平台、(4)光罩设计以及(5)电路应用等五个基本研究项目之技术开发做重点说明；且各项目均要说明为计画「欲研发突破之关键技术」或是「为现有技术之引用」，其中欲研发突破之关键技术至少一项，若有部份项目未说明，计画则不予推荐。
四、每年需配合国科会进行期中成果追踪、查核及考评，以确认年度经费补助额度外，在计画执行结束后，将进行全程期末成果审查。
五、详情请参阅附件征求公告：http://web1.nsc.gov.tw/newwp.aspx?act=Detail&id=402881d0363ae70001365756502000e0&ctunit=31&ctnode=42&mp=1。

发布日期：2012/03/28
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